取消
清空記錄
歷史記錄
清空記錄
歷史記錄
PVD(Physical Vapor Deposition),指利用物理過程實現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移,將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。
它的作用是可以是某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能。
PVD基本方法:真空蒸發(fā)、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。
“DLC”是英文“DIAMOND-LIKE CARBON”一次的縮寫。DLC是一種由碳元素構(gòu)成、在性質(zhì)上和鉆石類似,同時又具有石墨原子組成結(jié)構(gòu)的物質(zhì)。
類金剛石薄膜(DLC)是一種非晶態(tài)薄膜,由于具有高硬度和高彈性模量,低摩擦因數(shù),耐磨損以及良好的真空摩擦學(xué)特性,很適合于作為耐磨涂層,從而引起了摩擦學(xué)界的重視。
目前制備DLC薄膜的方法很多, 不同的制備方法所用的碳源以及到達基體表面的離子能量不同, 沉積的DLC 膜的結(jié)構(gòu)和性能存在很大差別, 摩擦學(xué)性能也不相同。
相關(guān)新聞